金屬材料領域*的全譜直讀光譜儀
檢測基體:鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基
全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術,采用全數字技術,替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術,與光譜儀技術同步,采用真空光學室設計及全數字激發光源、的CCD檢測器,高速數據讀出系統,使儀器具有*的性能、極低的檢出線、長期的穩定性和重復性。適用于金屬制造業、加工業及金屬冶煉業用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的主要設備之一。
主要技術參數:光學系統:帕型)-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統;
波長范圍:170nm~580nm
焦距:400mm
探測器:高性能CCD陣列
光源類型:數字光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率:100-1000Hz
放電電流:zui大400A
工作電源:220VAC 50/60Hz
儀器尺寸:720*860*500
儀器重量:約100kg(不含真空系統)
檢測時間:依據樣品類型而定,一般25S左右
電極:鎢材噴射電
氬氣要求:99.999%
氬氣進口壓力:0.5MPa
氬氣流量:激發流量約3.5L/min
工作溫度:10℃~35℃
工作濕度:20%~85%
分析間隙:真空軟件自動控制、監測
產品特色
優化設計的真空光學系統
全數字激發光源
全數字、高能預燃技術(HEPS),不同樣品設置不同的激發參數,提高樣品的測量精度和相似性,提高樣品激發速度,提高火花穩定性,使樣品有更好的重現性。
功能性設計的激發裝置
高集成、高速度讀出系統
直觀、易操作的分析軟件